nieuwste nummerAgenda
We want to cordially invite you to participate in the RSD 2021 in Leipzig, Germany. It is organized by the Leibniz Institute of Surface Engineering (IOM), which is devoted to research tailoring surface properties, including thin film coatings, using plasmas, ions, electrons, and photons.RSD 2021 is a sequel to a series of successful conferences dedicated to reactive sputter deposition, which were organized starting from 2000 in different countries by different organizations. The main focus is the use of various magnetron sputtering techniques, but RSD 2021 is also open to other sputter deposition processes, such as, for instance, ion beam sputter deposition. Both fundamental aspects and various fields of application are addressed. The conference is steadily growing and brings together young and senior scientists from universities, research institutes, and industry. It is designed to be a place of lively discussions of current and future scientific and technical results or challenges. Therefore, we will do our best to make the RSD 2021 a successful event benefiting all participants and exhibitors.
Location: Virtual/OnlineWebsite
Area-selective deposition (ASD) is a technology that is currently gathering momentum as enabler for bottom-up fabrication. Its main promise is the ability to process material in a self-aligned fashion, thereby eliminating alignment errors in semiconductor processing. In addition, ASD has been considered for alternative nanofabrication schemes in catalysis. By using mature thin film techniques such as chemical vapor deposition (CVD) and atomic layer deposition (ALD) as a starting point, the development of strategies and approaches to ASD primarily focuses on making the growth selective to specific materials or surfaces. This often involves the selective adsorption of reactant species, or as a more general approach, the deactivation of surfaces on which no growth is desired by selective functionalization. While achieving selective deposition is already difficult, maintaining the selectivity is yet another challenge, as there are numerous side-reactions that could lead to loss of selectivity. In this webinar, several aspects of ASD technology will be addressed, ranging from fundamental surface reactions to technological challenges.
Physics@Veldhoven takes place each year in January. It is a large congress that provides a topical overview of physics in the Netherlands. Traditionally, young researchers are given the chance to present themselves and their work alongside renowned names from the Dutch and international physics community. The programme covers Statistical physics & soft condensed matter, Physics of fluids, Plasma & fusion physics, Quantum physics, Nanoscale hysics, Atomic, molecular and optical physics, Materials physics, Particle physics, Astroparticle physics and Physics for technology.
Location: Virtual/OnlineWebsite
Understanding the origin of stress in thin films produced by physical vapor deposition (PVD) is of key importance as excessive stress levels can lead to premature failure by cracking, buckling or interfacial delamination, which compromises device durability.
This webinar will provide an overview on how film stress develops during deposition, how it is affected by the main process parameters, and how to mitigate it. Selected examples from epitaxial, amorphous and polycrystalline thin films will be highlighted, with emphasis on metallic thin films. Models explaining the generation and relaxation of stress will be presented and discussed. The webinar will also cover practical aspects on how to measure stress during growth using wafer curvature methods.
An experts view on cleanlinessThe cleaning of components is one of the critical steps in modern production processes. Whether it comes to ensuring the required cleanliness for subsequent steps in the process, or guaranteeing the quality and functionality of the component to be cleaned, the cleaning of components is a crucial step in many industries, such as metal working and processing, automotive, medical technology, and aerospace.
Website
meer agenda
Nieuws
2021-08-19
Vera Erends publiceerde in november 2020 het artikel Verificatie en validatie van ultrahoogvacuümsimulaties voor de ETpathfinder in het NEVAC blad. De Engelse vertaling is nu verschenen op de website van Comsol.
2021-07-02
De NEVAC is verheugd dat Fred Schenkel, leraar aan de LIS (Leidse Instrumentmakersschool), per 1 juli de taak van secretaris gaat overnemen. Fred is geen onbekende, want hij was eerder winnaar van de NEVAC-prijs 2012 en enkele jaren redacteur van het NEVAC blad. Ook zorgde hij voor de inhoud van de website. Welkom terug Fred!
De vereniging zoekt nu nog een penningmeester, liefst iemand uit het bedrijfsleven. Meer informatie via voorzitter@nevac.nl
In de gedrukte versie van het julinummer van het NEVAC blad staat abusievelijk dat Fred de nieuwe penningmeester is, maar dat klopt dus niet.
De vereniging zoekt nu nog een penningmeester, liefst iemand uit het bedrijfsleven. Meer informatie via voorzitter@nevac.nl
In de gedrukte versie van het julinummer van het NEVAC blad staat abusievelijk dat Fred de nieuwe penningmeester is, maar dat klopt dus niet.
2021-04-14
Recentelijk heeft onze secretaris Jan van Kessel besloten een stapje terug te zetten. Daarnaast loopt de termijn van onze penningmeester Ad Ettema af en zal hij zich niet nogmaals verkiesbaar stellen.
Daarom zoeken we per direct een competente secretaris (m/v) en penningmeester (m/v) voor het NEVAC-bestuur.
Een positie als bestuurslid biedt je/u de kans om NEVAC mede te vormen en waar nodig te vernieuwen.
De tijdsbelasting valt mee.
Wij willen in het bijzonder onze leden uit het bedrijfsleven aanmoedigen om te solliciteren.
Meer informatie is te verkrijgen via het bestuur, via voorzitter@nevac.nl
Daarom zoeken we per direct een competente secretaris (m/v) en penningmeester (m/v) voor het NEVAC-bestuur.
Een positie als bestuurslid biedt je/u de kans om NEVAC mede te vormen en waar nodig te vernieuwen.
De tijdsbelasting valt mee.
Wij willen in het bijzonder onze leden uit het bedrijfsleven aanmoedigen om te solliciteren.
Meer informatie is te verkrijgen via het bestuur, via voorzitter@nevac.nl
2021-03-16
It gives us great pride to announce that this year, ARCNL will organize the NEVAC Symposium on May 18, 2021 fully online.
Please, check out arcnl.nl/nevac for this year’s program and for your registration for attending the NEVAC Symposium 2021. We hope to welcome all of you for that great day. In addition to a number of exciting lectures, we offer an online tour of ARCNL and two sessions with so-called bullet presentations, as an alternative for the traditional poster session.
Bullet presentations are compact, 3-minute presentations, without questions and answers. You can submit your title and abstract by filling out that information on the registration form. The deadline for these special presentations is Friday, 23 April. We will get in touch with you soon after that to let you know whether your contribution was selected, after which we will provide you with instructions for the pre-recording of these mini-presentations.
This year’s organizers:
Prof. Joost Frenken, Dr. Jan Verhoeven, Dr. Roland Bliem
This year, the Symposium will not be combined with the annual General Assembly of the Members of the NEVAC Society. This meeting will take place online Wednesday 12 May, 19.30 hr.
Registration
Participation in this year’s NEVAC Symposium is free of charge, even if you’re not a NEVAC member yet (membership registration page). You can join the meeting by use of this ZOOM-link.
download flyer
Please, check out arcnl.nl/nevac for this year’s program and for your registration for attending the NEVAC Symposium 2021. We hope to welcome all of you for that great day. In addition to a number of exciting lectures, we offer an online tour of ARCNL and two sessions with so-called bullet presentations, as an alternative for the traditional poster session.
Bullet presentations are compact, 3-minute presentations, without questions and answers. You can submit your title and abstract by filling out that information on the registration form. The deadline for these special presentations is Friday, 23 April. We will get in touch with you soon after that to let you know whether your contribution was selected, after which we will provide you with instructions for the pre-recording of these mini-presentations.
This year’s organizers:
Prof. Joost Frenken, Dr. Jan Verhoeven, Dr. Roland Bliem
This year, the Symposium will not be combined with the annual General Assembly of the Members of the NEVAC Society. This meeting will take place online Wednesday 12 May, 19.30 hr.
Registration
Participation in this year’s NEVAC Symposium is free of charge, even if you’re not a NEVAC member yet (membership registration page). You can join the meeting by use of this ZOOM-link.
download flyer
2021-03-15
Het NEVAC blad is het tijdschrift van de Nederlandse Vereniging voor Vacuümtechniek, NEVAC. Het doel is uitwisseling van informatie tussen wetenschappers, technici en bedrijven binnen de vacuümtechniek in Nederland. Het blad verschijnt drie keer per jaar. De huidige hoofdredacteur, Hans van Eck (Differ), gaat na acht jaar stoppen met deze functie en daarom zoekt de vereniging nu een opvolger.
Taken:
Gemiddeld een dag per maand.
Het NEVAC blad kan ook versterking gebruiken van gewone redactieleden die ideeën en contacten aandragen voor artikelen en deze artikelen redigeren.
Heeft u interesse in het leveren van een bijdrage aan het NEVAC blad als (hoofd)redacteur, stuur dan een mail aan redactie@nevac.nl
De hoofdredacteur en redactieleden worden benoemd door het bestuur van de NEVAC.
Wilt u meer informatie, neem dan contact op met Hans van Eck, H.J.N.vanEck@differ.nl
Taken:
- Richting geven aan de inhoud en vorm van het NEVAC blad, ideeën en contacten aandragen voor nieuwe artikelen
- Mede-redigeren van binnenkomende teksten
- Jaarlijks de jury samenstellen voor de beoordeling van inzendingen voor de NEVAC-prijs (en daar zelf ook aan deelnemen)
Gemiddeld een dag per maand.
Het NEVAC blad kan ook versterking gebruiken van gewone redactieleden die ideeën en contacten aandragen voor artikelen en deze artikelen redigeren.
Heeft u interesse in het leveren van een bijdrage aan het NEVAC blad als (hoofd)redacteur, stuur dan een mail aan redactie@nevac.nl
De hoofdredacteur en redactieleden worden benoemd door het bestuur van de NEVAC.
Wilt u meer informatie, neem dan contact op met Hans van Eck, H.J.N.vanEck@differ.nl