Agenda

Ook dit jaar een kijkje in de keuken bij de wetenschap? Bij ARCNL Open Dag, de online editie kan het. Meld je aan, ontvang de ZOOM-link, en doe mee: volg een minilezing over computer- en geheugenchips van ASML en het onderzoek van ARCNL, en bekijk de live (online) laboratoriumtours. Of ga samen met de (klein-) kinderen aan de slag om een kleurensplitser te maken.
AVS 67 Virtual Showcase Featuring Three FREE Live Sessions on Emerging Topics Related to Materials, Processing & Interfaces

With the unfortunate cancellation of the AVS 67th International Symposium & Exhibition, AVS is pleased to present the AVS 67 Virtual Showcase to be held October 27-29, 2020, 10:00 am-1:00 pm. (EDT). Like the AVS International Symposium, this Virtual Showcase will also cover a range of emerging topics related to materials, processing, and interfaces in both the research and manufacturing communities. The Virtual Showcase will consist of three live sessions filled with invited speakers and award talks, live Q&A, other highlights, and special events.

Although you will be required to register to participate in this event, AVS is providing the Virtual Showcase FREE of charge in order to support our community, promote collaboration, networking, engagement, and disseminate scientific content.
 Nationaal Symposium Contamination Control Het symposium in Congrescentrum ‘s-Hertogenbosch heeft een middagvullend programma met parallelle sessies. Daarnaast is er de mogelijkheid tot het deelnemen aan of bezoeken van de vakbeurs. Het programma wordt in april bekend gemaakt. Vanaf dat moment kan je je inschrijven als symposiumdeelnemer.
ALD@NL day Please reserve the date!
The aim of this national event is to bring researchers, technologists and other people interested in ALD together to learn about the latest developments in research, development and manufacturing.
The day will feature presentations and also provide ample opportunity for networking.
Please preregister to receive updates on the event: www.AtomicLimits.com/ALD-NL-day

Big Science Business Forum 2021 BSBF 2021 is a business oriented congress which congregates all the European Research Infrastructures, focused on technology and with the aim to be the main meeting point between Research Infrastructures and industry.

This will be the second edition of the event after the success of the previous edition in Copenhagen, where more than 1,000 participants from more than 500 organisations and 29 countries gathered together to discuss the future prospects of the Big Science Market.

NEVAC blad

Het NEVAC blad is het orgaan van de NEVAC waarmee zij haar leden op de hoogte houdt van de ontwikkelingen op het gebied van vacuümtechniek en de toepassing van vacuüm. Nieuwe vacuümconstructies, nieuwe onderdelen, pompen, toepassingen, etc., worden belicht. Toepassingen van vacuümtechniek in onderzoek aan oppervlakken en dunne films komen ruim aan bod. Leden krijgen het NEVAC blad automatisch toegestuurd. Het blad verschijnt driemaal per jaar en artikelen zijn hoofdzakelijk in het Nederlands. Ieder jaar wordt de NEVAC-prijs uitgereikt voor het beste artikel geschreven door promovendi en studenten. Sinds het voorjaar van 1998 is er deze NEVAC-website voor actuele informatie op het gebied van vacuüm.

Laatste nummer NEVAC blad, juni 2020

Uit de inhoud:

* Map of ALD@NL
* Editorial: Atomic layer deposition in the Netherlands Erwin Kessels & Bart Macco
* ALD – a truly enabling nanotechnology; And how the Netherlands contributed to its wide spread application Erwin Kessels
* Plasma-assisted Atomic Layer Deposition; High-volume manufacturing and new opportunities in research Harm Knoops
* Hot-Wire assisted ALD; Another example of radical enhanced atomic layer deposition Alexey Y. Kovalgin, Antonius A.I. Aarnink, Mengdi Yang
* ALD on particles; Scalable production of nanostructured materials Ruud van Ommen
* Atomic Layer Deposition for crystalline silicon solar cells; Innovate at the nanoscale, deploy at the gigawatt scale Bart Macco
* Interface engineering by ALD in organo-metal halide perovskite solar cells; Reflections on the state-of-the art and perspectives Adriana Creatore
* Spatial Atomic Layer Deposition for large-area and flexible electronics Paul Poodt
* Area-selective atomic layer deposition for bottom-up fabrication of nanoelectronics Adrie Mackus, Marc Merkx, Jun Li
* Tailoring the properties of 2D transition metal dichalcogenides by ALD Ageeth Bol, Shashank Balasubramanyam, Saravana Basuvalingam, Jeff Schulpen, Vincent Vandalon
* Etching with atomic-level precision; The emerging field of atomic layer etching Adrie Mackus, Tahsin Faraz, Nick Chittock
* ALD@NL Day










Redactie NEVAC blad

Claud Biemans (eindredacteur)
Ad Ettema
Hans van Eck (hoofdredacteur)
Rients de Groot
Karine van der Werf
redactie@nevac.nl

Advertenties, ledenadministratie, abonnementen
Ad Ettema
Delftechpark 26
2628 XH Delft The Netherlands
T: +31 15 2600406 F: +31 15 2600405
penningmeester@nevac.nl

Abonnementen (voor niet-leden)
Binnenland € 100,- per jaar
Buitenland € 150,- per jaar

Grafische vormgeving
Claud Biemans
www.frontlinie.nl

[javascript protected email address]