Agenda

Een cleanroom alleen is niet genoeg, bewustwording over specificaties en reinigingsstappen zijn complexe vraagstukken die vanuit een totaal perspectief bekeken moeten worden. Deelnemers aan het congres krijgen waardevolle informatie die helpt bij het nemen van de juiste beslissingen en het doen van de juiste investeringen om te voldoen aan gevraagde reinheidseisen.
Het Clean Event verbindt professionals uit de gehele keten rondom industriële reinheid om samen de uitdagingen aan te gaan, kennis te delen en ervaringen uit te wisselen. Bezoekers van het event ontmoeten leveranciers van industriële schoonmaakdiensten, -systemen en -producten gericht op: natte reinigingsprocessen, thermische reinigingsprocessen, speciale reinigingsprocessen en -toepassingen, mechanische reinigingsprocessen, cleanrooms en benodigdheden
Het programma voor de NEVAC-dag is nog in ontwikkeling. Dit jaar bundelt het NEVAC-bestuur de krachten met de Leidse instrumentmakers School (LiS). Aansluitend op de NEVAC-dag organiseert de LiS een van hun inspiratieavonden, waarbij LiS-alumni, studenten en docenten worden uitgenodigd om technische workshops bij te wonen.
Een van de plannen is om een workshop over vacuüm te geven. Deze combinatie met de NEVAC-dag, inclusief de gebruikelijke bedrijvenbeurs, biedt de NEVAC de mogelijkheid om jong technisch talent warm te maken voor vacuümtechnologie.
The joint European conference provides scientists, researchers and engineers from across Europe, and working in academia, national labs and industry, the opportunity to meet and discuss the latest advances in the physics and chemistry of surfaces as well as their industrial application. It is a forum to discuss the progress of surface science in related innovation fields such as heterogeneous catalysis, organic molecular nano-architectures, two-dimensional materials and graphene, nanoelectronics, bio-nanoscience and functional and energy materials studied both using theoretical and experimental methods.
24th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2024)/ 11th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2024) Helsinki, Finland
The AVS 24th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2024) featuring the 11th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2024) will be a three-day meeting dedicated to the science and technology of atomic layer controlled deposition of thin films and now topics related to atomic layer etching. Since 2001, the ALD conference has been held alternately in the United States, Europe and Asia, allowing fruitful exchange of ideas, know-how and practices between scientists. This year, the ALD conference will again incorporate the Atomic Layer Etching 2024 Workshop (ALE 2024), so that attendees can interact freely.

meer agenda

Author guidelines

Headline
Keep it short. Use a subtitle if necessary.

Authors
First name and family name of all authors, followed by address and email.

Introduction
Maximum 150 words, describing the content of the paper.

Main text
Maximum 2000 words, including introduction. Use paragraph headers after more or less every 300 words. End with conclusions.

Symbols
Use SI units. Explain deviating units. Explain symbols. Use italic typesetting for symbols.

Use boxes
NEVAC blad readers are researchers, students and technicians. Use boxes for specialist scientific or technical details and formulas, so that average readers can understand the tenor of your story. Don't forget to mention details of your vacuum equipment; use diagrammes and photo's.

File formats
Text as .doc of .docx files. It is always good to add a pdf file of the complete document.

Images
Always send images as separate files. Formats: jpg, eps, ai, psd, tif. Resolution: 300 dpi at printable size or bigger. Captions up to 50 words. If you want to use an image with extended explanation: use a box.

Fee
Master students and PhD students will receive € 250,- for published articles.

Send text and images to redactie@nevac.nl



[javascript protected email address]