cursusoverzicht
EVT
VT
Applied Vacuum Technology Training
Basiskennis Vacuümtechniek
VacuümCompact
lekzoeken
Opdamptechnieken
Restgasanalyse
Bedrijfscursussen
Agenda
We want to cordially invite you to participate in the RSD 2021 in Leipzig, Germany. It is organized by the Leibniz Institute of Surface Engineering (IOM), which is devoted to research tailoring surface properties, including thin film coatings, using plasmas, ions, electrons, and photons.RSD 2021 is a sequel to a series of successful conferences dedicated to reactive sputter deposition, which were organized starting from 2000 in different countries by different organizations. The main focus is the use of various magnetron sputtering techniques, but RSD 2021 is also open to other sputter deposition processes, such as, for instance, ion beam sputter deposition. Both fundamental aspects and various fields of application are addressed. The conference is steadily growing and brings together young and senior scientists from universities, research institutes, and industry. It is designed to be a place of lively discussions of current and future scientific and technical results or challenges. Therefore, we will do our best to make the RSD 2021 a successful event benefiting all participants and exhibitors.
Location: Virtual/OnlineWebsite
Area-selective deposition (ASD) is a technology that is currently gathering momentum as enabler for bottom-up fabrication. Its main promise is the ability to process material in a self-aligned fashion, thereby eliminating alignment errors in semiconductor processing. In addition, ASD has been considered for alternative nanofabrication schemes in catalysis. By using mature thin film techniques such as chemical vapor deposition (CVD) and atomic layer deposition (ALD) as a starting point, the development of strategies and approaches to ASD primarily focuses on making the growth selective to specific materials or surfaces. This often involves the selective adsorption of reactant species, or as a more general approach, the deactivation of surfaces on which no growth is desired by selective functionalization. While achieving selective deposition is already difficult, maintaining the selectivity is yet another challenge, as there are numerous side-reactions that could lead to loss of selectivity. In this webinar, several aspects of ASD technology will be addressed, ranging from fundamental surface reactions to technological challenges.
Physics@Veldhoven takes place each year in January. It is a large congress that provides a topical overview of physics in the Netherlands. Traditionally, young researchers are given the chance to present themselves and their work alongside renowned names from the Dutch and international physics community. The programme covers Statistical physics & soft condensed matter, Physics of fluids, Plasma & fusion physics, Quantum physics, Nanoscale hysics, Atomic, molecular and optical physics, Materials physics, Particle physics, Astroparticle physics and Physics for technology.
Location: Virtual/OnlineWebsite
Understanding the origin of stress in thin films produced by physical vapor deposition (PVD) is of key importance as excessive stress levels can lead to premature failure by cracking, buckling or interfacial delamination, which compromises device durability.
This webinar will provide an overview on how film stress develops during deposition, how it is affected by the main process parameters, and how to mitigate it. Selected examples from epitaxial, amorphous and polycrystalline thin films will be highlighted, with emphasis on metallic thin films. Models explaining the generation and relaxation of stress will be presented and discussed. The webinar will also cover practical aspects on how to measure stress during growth using wafer curvature methods.
An experts view on cleanlinessThe cleaning of components is one of the critical steps in modern production processes. Whether it comes to ensuring the required cleanliness for subsequent steps in the process, or guaranteeing the quality and functionality of the component to be cleaned, the cleaning of components is a crucial step in many industries, such as metal working and processing, automotive, medical technology, and aerospace.
Website
meer agenda
VacuümCompact
DoelgroepDe cursus is gericht op technische medewerkers die nauw betrokken zijn bij de vacuümtechniek. Zij komen in aanraking met het dimensioneren en testen van complete vacuümsystemen en daarmee tevens met 'rekentechnische' problemen. Vaak zijn zij gesprekspartners voor de deskundigen van vacuümtechnische leveranciers.
De gehele cursus is vrij intensief. Er wordt niet van de deelnemers verwacht dat er thuis opdrachten worden gemaakt. Wel wordt aangenomen dat hun minimale technische voorkennis op MBO-niveau is. De rekenvaardigheid moet naar behoren zijn.
Omdat in de beroepsopleiding van zowel MBO-ers als HBO-ers weinig tot geen aandacht wordt besteed aan vacuümtechniek, kan deze cursus voor beide opleidingsniveaus een zinvolle aanvulling zijn.
Doelstelling
De training geeft inzicht in het het ontwerpen, assembleren en testen van vacuümsystemen met moderne pompelementen. Na afloop van de cursus hebben deelnemers meer inzicht verkregen in de vacuümtechniek, waardoor zij gemakkelijker vacuümtechnische problemen herkennen en kunnen oplossen. Zij zijn bekend met het probleem van verontreinigingen en weten door welke factoren dit wordt bepaald. Zij beseffen dat reinigingsprocedures en netjes werken in de vacuümtechniek van eminent belang zijn. Zij kennen de werking van verschillende pompen en drukmeters. Verder zijn zij bekend met het gebruik van onderdruk- en overdrukmethodes en bombing om lekken op te sporen, en weten hoe te werken met een heliumlekzoeker. Ook zijn zij in staat een eenvoudig restgasspectrum te analyseren en op grond daarvan te concluderen of de einddruk wordt bepaald door lekkage dan wel ontgassing.
Korte inhoud
- Algemene fysische basisbegrippen
- Werking, fysische achtergronden en toepassingsgebieden van alle gangbare pomptypes en totaaldrukmeters
- Berekening geleidingsvermogens en effectieve pompsnelheid, drukberekening in samenhang met inlek, gasafgifte en pompsnelheid
- Werking restgasanalysatoren (RGA), verband tussen restgasspectrum en ontgassing, olieverontreiniging, inlek, pomptype
- Lekzoekmethoden, gassoortafhankelijke drukmeting, heliumlekzoeker
- Materialen, verbindingen, bewerkingstechnieken, reiniging, uitstoken
- Componenten, constructies, verbindingen
- Toepassing van de vacuümtechniek onder agressieve omstandigheden
- Ontwerpen van vacuümsystemen, beveiliging, bediening, storingsanalyse
Cursusduur
De cursus beslaat vier dagdelen van zes uur, totaal vier dagen. In de eerste drie dagen van de cursus is ook eenvoudig rekenwerk verwerkt.
Dag 1
Basiskennis, drukmeters en restgasanalyse.
Dag 2
Alle gangbare voorpompen en hoogvacuümpompen (natte en droge pompen) en lekzoeken.
Dag 3
Verbindingstechnieken: Lassen, lijmen, O-ring verbindingen, schoonmaken. Systeembouw, indien mogelijk bezichtiging van opbouw vacuümsystemen.
Dag 4
Praktisch rekenen aan vacuümsystemen, teneinde meer inzicht te krijgen in de vacuümtechniek met al zijn problemen. Vacuümtechniek in de praktijk.
Er is aan de cursus geen examen verbonden, wel kunnen deelnemers na afloop van de cursus een NEVAC-testimonium ontvangen (meerprijs).
Aanbieders
dr. A.D. van Langeveld, M 06-29561797, advanlangeveld@gmail.com
M. Mulder, T 06-30676712, mintemulder17@gmail.com
Th. Mulder, T 0348-441878, thmulder@hetnet.nl
H.J.M. Oerbekke, M 06-12923569, eduvacnl@mail.com
Opties
- Geen inschrijfcursussen
- Bedrijfscursus op locatie
- Desgewenst kan de cursus ook worden gegeven in het Engels of Duits