Agenda

ALD-ALE 2021 The AVS 21st International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2021) featuring the 8th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2021) will be a three-day meeting dedicated to the science and technology of atomic layer controlled deposition of thin films and now topics related to atomic layer etching. Since 2001, the ALD conference has been held alternately in the United States, Europe and Asia, allowing fruitful exchange of ideas, know-how and practices between scientists. This year, the ALD conference will again incorporate the Atomic Layer Etching 2021 Workshop (ALE 2021), so that attendees can interact freely. The conference will take place Sunday, June 27-Wednesday, June 30, 2021, at the JW Marriott Tampa Water Street in Tampa, Florida.
VCCN Minisymposium Product Cleanliness High Tech Campus Eindhoven

Suppliers are increasingly being asked to deliver clean products to OEM companies (Original Equipment Manufacturer). Because there is a need for a definition of how clean the product must be, VCCN set up the Nano, Micro, Product Cleanliness project group in 2017. This working group consists of OEM companies, suppliers and knowledge companies. Soon after the working group started, there was a need to develop a guideline so that everyone speaks the same language with regard to product cleanliness. With the help of OEM companies, who set requirements for the cleanliness of the product, they are energetically working on drawing up VCCN Guideline 12.

In this mini-symposium, experts present the progress of VCCN Guideline 12 and provide substantive contributions. The speakers will be:

Koos Agricola, project manager VCCN Guideline 12
Philip van Beek, Contamination Q&A, VCCN
Max van de Berg, Festo
Rients de Groot, Thermo Fisher Scientific
Paul Krüsemann, Eurofins Material Science Netherlands B.V.
Freek Molkenboer, TNO
Olof Teulings, NTS Mechatronics
Dirk Trienekens, ASML Netherlands B.V.

The chairman of the day is Philip van Beek, co-initiator of the Nano, Micro, Product Cleanliness project group.
AVS 67th International Symposium & Exhibition The AVS International Symposium and Exhibition has been developed to address cutting-edge issues associated with vacuum science and technology in both the research and manufacturing communities. The Symposium is a week long forum for science and technology exchange featuring papers from technical divisions and technology groups, and topical conferences on emerging technologies. The equipment exhibition is one of the largest in the world and provides an excellent opportunity to view the latest products and services offered by over 200 participating companies. More than 3,000 scientists and engineers gather from around the world to attend. Short courses are offered in conjunction with the International Symposium providing specialized training in specific areas of vacuum science and related technologies. A Career Workshop and Job Center are also offered to all attendees. The Workshop covers such topics as résumé preparation, job search skills, networking, interviewing skills, and more. The Job Center provides the opportunity for job seekers to submit their résumés and meet with potential employers.

meer agenda

Basisboek vacuümtechniek

Geheel herziene versie van het in 2000 door de Nederlandse Vacuümvereniging NEVAC uitgegeven Basisboek Vacuümtechniek, inmiddels uitgegroeid tot een erkend Nederlandstalig standaardwerk en met twee herdrukken bestseller op het vakgebied der vacuümtechniek in het Nederlandse taalgebied. Deze nieuwe 774 pagina's tellende editie bevat alle actuele informatie voor iedereen werkzaam in vacuümgerelateerde research, instrumentatie, ontwikkeling, productie of marketing.
De auteurs presenteren diverse nieuwe ontwikkelingen op het gebied van pompen (o.a. MDP/zijkanaalpomp en nieuwe varianten getter-ionenpompen), drukmeting (kwartskristal frictiemanometer) en partiële drukmeters (autoresonant trap massaspectrometer). Het gedeelte over lekdetectie is volledig herzien. Meer nadruk ligt op lekdetectie via het tegenstroomprincipe, waarvan de maximaal haalbare gevoeligheid het afgelopen decennium aanzienlijk is toegenomen. Er worden twee nieuwe "van-binnen-naar-buiten" (inside-out) lekdetectiemethoden behandeld: de atmosfeermethode en 'bombing'. Het arsenaal aan beschikbare instrumenten voor lekdetectie is uitgebreid met multigas snuffelsystemen, waterstoflekdetector en Penning-snuffelaar. Het hoofdstuk over reinigingsprocedures is aangepast aan de veranderde inzichten op dit gebied en meer gericht op complete vacuümsystemen. Tenslotte is een aantal afbeeldingen toegevoegd of vernieuwd. Al met al vormt het boek een onmisbare hulpbron voor onderzoekers, ingenieurs, onderhoudspersoneel en verkoopmanagers die zich bezighouden met vacuümgerelateerde onderwerpen. Ruime aandacht wordt besteed aan zowel relevante fysische modellen als hedendaagse vacuümapparatuur.
Achttien jaar gebruik van de eerste editie in talloze vacuümcursussen heeft bewezen dat het boek niet alleen een uitstekend naslagwerk is, maar ook een voortreffelijk cursusboek vanwege zijn unieke "getrapte" structuur, waarbij de specifiek voor HBO'ers en academici bedoelde verdiepingsstof met een kantlijnstreep is gemarkeerd. Zónder verdiepingsstof resteert een samenhangend en helder opgezet cursusboek op MBO-niveau. Als het ware "twee boeken in een". Perfect geschikt voor (gecombineerd) vacuümonderwijs op hoger en middelbaar niveau. Om de aantrekkelijkheid als cursusboek verder te vergroten, zijn in deze tweede editie niet alleen de korte antwoorden bij de hoofdstukoefeningen opgenomen, maar ook hun complete uitwerkingen. Cursisten zullen het boek ervaren als een synthese van fundamentele vacuümfysica en moderne praktijk.
Het Basisboek Vacuümtechniek is een uitgave onder auspiciën van de NEVAC, die hiermee passende inhoud geeft aan een van haar belangrijke doelstellingen, namelijk de verbreiding van kennis op het vakgebied der vacuümtechniek.
Terug naar overzicht boeken vacuümtechniek



[javascript protected email address]