Agenda

Nationaal Symposium Contamination Control 2024 Apeldoorn
Symposium van de Vereniging Contamination Control Nederland (VCCN), met lezingenprogramma's over OK-luchtbehandeling en ontwerp, realisatie en beheer van een cleanroom.
Nikhef, Amsterdam
Op deze middag staat instrumentatie centraal en ook het afronden van aanvragen of het initiëren van projecten die kunnen worden ingediend in het strategisch programma “Advanced Instrumentation”. Dit programma stimuleert samenwerkingen van kennisinstellingen (NWO-I, TNO, NOVA en HFML-Felix) met Nederlandse hightech-bedrijven voor de ontwikkeling van geavanceerde instrumenten. De looptijd is vier jaar (2024-2027) en er zijn vier thema’s:

  • ultra sensitieve detectoren;

  • high-performance optica;

  • bestendig instrumentarium voor extreme omstandigheden;

  • complexe systeemintegratie.

The joint European conference provides scientists, researchers and engineers from across Europe, and working in academia, national labs and industry, the opportunity to meet and discuss the latest advances in the physics and chemistry of surfaces as well as their industrial application. It is a forum to discuss the progress of surface science in related innovation fields such as heterogeneous catalysis, organic molecular nano-architectures, two-dimensional materials and graphene, nanoelectronics, bio-nanoscience and functional and energy materials studied both using theoretical and experimental methods.
24th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2024)/ 11th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2024) Helsinki, Finland
The AVS 24th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2024) featuring the 11th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2024) will be a three-day meeting dedicated to the science and technology of atomic layer controlled deposition of thin films and now topics related to atomic layer etching. Since 2001, the ALD conference has been held alternately in the United States, Europe and Asia, allowing fruitful exchange of ideas, know-how and practices between scientists. This year, the ALD conference will again incorporate the Atomic Layer Etching 2024 Workshop (ALE 2024), so that attendees can interact freely.

meer agenda

Richtlijnen lange artikelen NEVAC Blad

Vergoeding kopij
Promovendi en studenten krijgen per gepubliceerd artikel een vergoeding van € 250,-

Kop
Kort en krachtig. Eventueel een onderkop gebruiken

Auteurs
Voor- en achternamen van alle auteurs. Daaronder adres en e-mailadres.

Inleiding
Maximaal 150 woorden, waarin in het kort staat waar het artikel over gaat.

Hoofdtekst
Inclusief inleiding maximaal 2000 woorden. Gebruik korte tussenkopjes ongeveer na elke 300 woorden. Eindig met een conclusie.

Taalgebruik en symbolen
Gebruik zoveel mogelijk Nederlandse termen. Woorden in een vreemde taal cursief zetten.

Leg uit waar gebruikte symbolen voor staan. Symbolen worden cursief gezet. Gebruik waar mogelijk SI-eenheden. Leg afwijkende eenheden uit.

Tip: woordenlijst.org voor het controleren van de schrijfwijze van Nederlandse woorden.

Gebruik van kaders
Bedenk bij het schrijven van een artikel dat het blad gelezen wordt door zowel onderzoekers, studenten als technici. Gebruik een kader voor gedeelten met specialistische wetenschappelijke of technische details en formules, zodat de minder gespecialiseerde lezer de algemene strekking van het verhaal kan blijven volgen. Vergeet niet details van de gebruikte vacuümopstelling te vermelden; een schematische afbeelding van de opstelling en foto's maken veel duidelijk.

Bestandsformaat
Lever de tekst aan als .doc of .docx. Eventueel een pdf als voorbeeld meesturen.

Afbeeldingen
Lever afbeeldingen los aan. Werkbare formaten: jpg, eps, ai, psd, tif.

Resolutie: 300 dpi bij het gewenste afdrukformaat of groter.

Engelse tekst in de figuren zo mogelijk vertalen naar Nederlands.

Bijschrift tot 50 woorden. Afbeeldingen met uitgebreide toelichting eventueel als kader plaatsen.

Kopij kunt u inzenden naar redactie@nevac.nl



[javascript protected email address]