Agenda

Reactive Sputter Deposition Conference We want to cordially invite you to participate in the RSD 2021 in Leipzig, Germany. It is organized by the Leibniz Institute of Surface Engineering (IOM), which is devoted to research tailoring surface properties, including thin film coatings, using plasmas, ions, electrons, and photons.

RSD 2021 is a sequel to a series of successful conferences dedicated to reactive sputter deposition, which were organized starting from 2000 in different countries by different organizations. The main focus is the use of various magnetron sputtering techniques, but RSD 2021 is also open to other sputter deposition processes, such as, for instance, ion beam sputter deposition. Both fundamental aspects and various fields of application are addressed. The conference is steadily growing and brings together young and senior scientists from universities, research institutes, and industry. It is designed to be a place of lively discussions of current and future scientific and technical results or challenges. Therefore, we will do our best to make the RSD 2021 a successful event benefiting all participants and exhibitors.
AVS Webinar: Area-Selective Deposition Location: Virtual/Online

Website

Area-selective deposition (ASD) is a technology that is currently gathering momentum as enabler for bottom-up fabrication. Its main promise is the ability to process material in a self-aligned fashion, thereby eliminating alignment errors in semiconductor processing. In addition, ASD has been considered for alternative nanofabrication schemes in catalysis. By using mature thin film techniques such as chemical vapor deposition (CVD) and atomic layer deposition (ALD) as a starting point, the development of strategies and approaches to ASD primarily focuses on making the growth selective to specific materials or surfaces. This often involves the selective adsorption of reactant species, or as a more general approach, the deactivation of surfaces on which no growth is desired by selective functionalization. While achieving selective deposition is already difficult, maintaining the selectivity is yet another challenge, as there are numerous side-reactions that could lead to loss of selectivity. In this webinar, several aspects of ASD technology will be addressed, ranging from fundamental surface reactions to technological challenges.
Physics@Veldhoven Physics@Veldhoven takes place each year in January. It is a large congress that provides a topical overview of physics in the Netherlands. Traditionally, young researchers are given the chance to present themselves and their work alongside renowned names from the Dutch and international physics community. The programme covers Statistical physics & soft condensed matter, Physics of fluids, Plasma & fusion physics, Quantum physics, Nanoscale hysics, Atomic, molecular and optical physics, Materials physics, Particle physics, Astroparticle physics and Physics for technology.
AVS Webinar: Fundamental and Practical Insights on Stress Evolution during Thin Film Growth Location: Virtual/Online
Website
Understanding the origin of stress in thin films produced by physical vapor deposition (PVD) is of key importance as excessive stress levels can lead to premature failure by cracking, buckling or interfacial delamination, which compromises device durability.

This webinar will provide an overview on how film stress develops during deposition, how it is affected by the main process parameters, and how to mitigate it. Selected examples from epitaxial, amorphous and polycrystalline thin films will be highlighted, with emphasis on metallic thin films. Models explaining the generation and relaxation of stress will be presented and discussed. The webinar will also cover practical aspects on how to measure stress during growth using wafer curvature methods.
Clean Event Design, production, assembly and packaging An experts view on cleanliness
The cleaning of components is one of the critical steps in modern production processes. Whether it comes to ensuring the required cleanliness for subsequent steps in the process, or guaranteeing the quality and functionality of the component to be cleaned, the cleaning of components is a crucial step in many industries, such as metal working and processing, automotive, medical technology, and aerospace.
Website

meer agenda

Opdamptechnieken

Doelgroep
De cursus is bedoeld voor technische medewerkers, die nauw betrokken zijn bij opdamptechnieken. Gewenste vooropleiding: MBO-techniek of overeenkomstig niveau.
Omdat in de beroepsopleiding van zowel MBO-ers als HBO-ers weinig tot geen aandacht wordt besteed aan vacuümtechniek in het algemeen en opdamptechnieken in het bijzonder, kan deze cursus voor beide categorieën een zinvolle aanvulling zijn.

Doelstelling
De cursus geeft inzicht in de fysische principes van het opdampen.
Na afloop van de cursus hebben deelnemers meer inzicht verkregen in het opdampproces, waardoor zij gemakkelijker problemen herkennen en kunnen oplossen. Zij zijn bekend met het probleem van veront­reinigingen en weten door welke factoren dit wordt bepaald. Zij kunnen een keus maken tussen weerstandsopdampen, opdampen vanuit een Knudsencel of E-beam opdampen, weten de voor- en nadelen van deze principes. Ook zijn zij in staat een eenvoudig restgasspectrum te analyseren en kunnen op grond daarvan vaststellen of de restgassamenstelling al dan geen invloed heeft op de aard en veront­reiniging van de op te dampen laag. Zij beseffen dat schoonmaakprocedures en netjes werken van eminent belang zijn voor een correct opgedampte laag.

Korte inhoud
Programma eerste drie uur:
  • Opdampmethodes met hun voor- en nadelen
  • Hoe gaan we tegen dat het substraat verontreinigt?
  • Rekenvoorbeelden van verontreiniging bij het opdampen van zilver
  • Wat voor materialen gebruiken we voor het opdampen?
  • Richtingsverdeling, kwartskristal, toolingfactor, spot­afmeting bundel
  • Liners, voor- en nadelen. Kaufmannbron (sputterbron)
  • Doel van de shutter. Co-evaporatie
  • Ongewenste lading op het substraat
  • Sublimeren van materialen met al hun problemen
Programma tweede drie uur:
  • Aangroei van opgedampte laag op het substraat
  • Laagaangroei en oppervlakteruwheid
  • Mobiliteit van opgedampte deeltjes
  • Hilocks van aluminium
  • Laagaangroei van goud en zilver op silicium en glas
  • Opdampen van oligomeren
  • Anti-reflectie coatings
  • Schoon­maaktechnieken van substraten
  • Clean room discipline. Voorbeelden van opdampsystemen
  • Wat zijn geschikte vacuümpompen?
  • Materiaalkeuze, afdichtingen
Er is aan de cursus geen examen verbonden, wel kunnen deelnemers na afloop van de cursus een Bewijs van Deelname ontvangen (meerprijs).

Cursusduur
Een dag.

Aanbieder
M. Mulder, T 06-30676712, mintemulder17@gmail.com

Opties
  • Geen inschrijfcursussen
  • Bedrijfscursus op locatie
Voor meer informatie, mogelijkheden en prijzen neem contact op met de cursusaanbieder.



[javascript protected email address]