Agenda

Reactive Sputter Deposition Conference We want to cordially invite you to participate in the RSD 2021 in Leipzig, Germany. It is organized by the Leibniz Institute of Surface Engineering (IOM), which is devoted to research tailoring surface properties, including thin film coatings, using plasmas, ions, electrons, and photons.

RSD 2021 is a sequel to a series of successful conferences dedicated to reactive sputter deposition, which were organized starting from 2000 in different countries by different organizations. The main focus is the use of various magnetron sputtering techniques, but RSD 2021 is also open to other sputter deposition processes, such as, for instance, ion beam sputter deposition. Both fundamental aspects and various fields of application are addressed. The conference is steadily growing and brings together young and senior scientists from universities, research institutes, and industry. It is designed to be a place of lively discussions of current and future scientific and technical results or challenges. Therefore, we will do our best to make the RSD 2021 a successful event benefiting all participants and exhibitors.
AVS Webinar: Area-Selective Deposition Location: Virtual/Online

Website

Area-selective deposition (ASD) is a technology that is currently gathering momentum as enabler for bottom-up fabrication. Its main promise is the ability to process material in a self-aligned fashion, thereby eliminating alignment errors in semiconductor processing. In addition, ASD has been considered for alternative nanofabrication schemes in catalysis. By using mature thin film techniques such as chemical vapor deposition (CVD) and atomic layer deposition (ALD) as a starting point, the development of strategies and approaches to ASD primarily focuses on making the growth selective to specific materials or surfaces. This often involves the selective adsorption of reactant species, or as a more general approach, the deactivation of surfaces on which no growth is desired by selective functionalization. While achieving selective deposition is already difficult, maintaining the selectivity is yet another challenge, as there are numerous side-reactions that could lead to loss of selectivity. In this webinar, several aspects of ASD technology will be addressed, ranging from fundamental surface reactions to technological challenges.
Physics@Veldhoven Physics@Veldhoven takes place each year in January. It is a large congress that provides a topical overview of physics in the Netherlands. Traditionally, young researchers are given the chance to present themselves and their work alongside renowned names from the Dutch and international physics community. The programme covers Statistical physics & soft condensed matter, Physics of fluids, Plasma & fusion physics, Quantum physics, Nanoscale hysics, Atomic, molecular and optical physics, Materials physics, Particle physics, Astroparticle physics and Physics for technology.
AVS Webinar: Fundamental and Practical Insights on Stress Evolution during Thin Film Growth Location: Virtual/Online
Website
Understanding the origin of stress in thin films produced by physical vapor deposition (PVD) is of key importance as excessive stress levels can lead to premature failure by cracking, buckling or interfacial delamination, which compromises device durability.

This webinar will provide an overview on how film stress develops during deposition, how it is affected by the main process parameters, and how to mitigate it. Selected examples from epitaxial, amorphous and polycrystalline thin films will be highlighted, with emphasis on metallic thin films. Models explaining the generation and relaxation of stress will be presented and discussed. The webinar will also cover practical aspects on how to measure stress during growth using wafer curvature methods.
Clean Event Design, production, assembly and packaging An experts view on cleanliness
The cleaning of components is one of the critical steps in modern production processes. Whether it comes to ensuring the required cleanliness for subsequent steps in the process, or guaranteeing the quality and functionality of the component to be cleaned, the cleaning of components is a crucial step in many industries, such as metal working and processing, automotive, medical technology, and aerospace.
Website

meer agenda

Restgasanalyse

Doelgroep
De cursus is bedoeld voor technische medewerkers, die nauw betrokken zijn bij het analyseren van restgasspectra in vacuümruimtes. Gewenste vooropleiding: MBO-techniek of overeenkomstig niveau.
Omdat in de beroepsopleiding van zowel MBO-ers als HBO-ers weinig tot geen aandacht wordt besteed aan vacuümtechniek in het algemeen en dit specialisme in het bijzonder, kan deze cursus voor beide categorieën een zinvolle aanvulling zijn.

Doelstelling
De cursus geeft inzicht in de fysische principes van restgasanalyse. Er worden recepten aangereikt voor een verantwoorde restgasinterpretatie. Na afloop is de deelnemer in staat om een eenvoudig restgasspectrum te analyseren en kan op grond daarvan vaststellen of de restgas­samen­stelling voldoet aan de gestelde vacuümeisen.

Korte inhoud
  • Er wordt behandeld welke restgasanalysator (RGA) geschikt is voor hoogvacuüm (hv) resp. voor ultra hoog vacuüm (uhv). Waar zitten de verschillen?
  • Er wordt uitvoerig ingegaan op het analyseren van spectra van systemen werkzaam in het drukgebied rondom 10-4 Pa, maar ook van systemen geoptimaliseerd voor het uhv-drukgebied rondom 10-9 Pa.
  • Belangrijk item: Hoe herken ik koolwaterstofverontreiniging? Waar komt deze vandaan?
  • Heden ten dage worden veel testsystemen van een RGA voorzien om na te gaan of onderdelen, bedoeld om te worden opgenomen in een vacuümsysteem waar de partiële koolwaterstofdruk lager dient te zijn dan bijv. 10-10 Pa, voldoen aan vooraf voor zo'n onderdeel gestelde reinheids­eisen.
  • Hoe ziet zo'n controleprocedure eruit? Hoe en waar monteer ik een RGA in het meetsysteem zodanig dat de gedetecteerde restgaspieken een afspiegeling vormen van de echte gassamenstelling in het sys­teem?
  • Alle genoemde kwesties zullen in de cursus aan de orde komen.
Er is aan de cursus geen examen verbonden, wel kunnen deelnemers na afloop van de cursus een Bewijs van Deelname ontvangen (meerprijs).

Cursusduur
Een halve dag.

Aanbieders
dr. A.D. van Langeveld, M 06-29561797, advanlangeveld@gmail.com
M. Mulder, T 06-30676712, mintemulder17@gmail.com
Th. Mulder, T 0348-441878, thmulder36@outlook.com

Opties
  • Geen inschrijfcursussen
  • Bedrijfscursus op locatie
  • Desgewenst kan de cursus ook worden gegeven in het Engels of Duits
Voor meer informatie, mogelijkheden en prijzen neem contact op met een van de cursusaanbieders.



[javascript protected email address]