opleidingen Basisboek vacuümtechniek cursusoverzicht Examens inschrijven

Agenda

ALD 2019 & ALE 2019 The AVS 19th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2019) featuring the 6th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2019) will be a three-day meeting dedicated to the science and technology of atomic layer controlled deposition of thin films and now topics related to atomic layer etching.
website
Symposium The power of aberration corrected transmission electron microscopy in materials ­science To celebrate the inauguration of our ZIAM electron microscopy center including:
  • Themis Z double aberration corrected and monochromated S/TEM
  • Helios G4 dual beam (FIB-SEM) system
  • Nova NanoSEM
Confirmed invited speakers:
  • Prof. Rafal Dunin-Borkowski (Jülich)
  • Prof. Gertjan Koster (Twente)
  • Prof. Beatriz Noheda (Groningen)
  • Dr. Marcel Verheijen (Eindhoven)
  • Dr. Marijn van Huis (Utrecht)
Host: Prof. Bart J. Kooi (Groningen, b.j.kooi@rug.nl)

For registration and up-to-date info on the program, see https://www.rug.nl/research/zernike/news/otherevents/workshop-electron-microscopy
PLATHINIUM (PlAsma THin film INternational Union Meeting) PLATHINIUM (Plasma Thin film International Union Meeting) is the result of merging of three international conferences, namely the Conferences on Plasmas (CIP), on Thin films (ITFPC), and on Magnetron, Ion processing & Arc technologies (MIATEC).
website
Nationale Cleanroom Dag Nieuwe en (meer) ervaren vakgenoten/cleanroomspecialisten kunnen kennis opdoen en uitbreiden door het volgen van een dagprogramma met lezingen, workshops en praktijkcases, tijdens de Nationale Cleanroom Dag. Op de informatiemarkt is een brede vertegenwoordiging van bedrijven en dienstverleners in de cleanroombranche.
Locatie: Congrescentrum Spant!, Bussum
website
VacuumExpo Exhibition. Training. Conference.
Connect with suppliers, attend training courses, see what's new!
Vacuum Expo is a free event that brings the whole supply chain together under the one roof: supplier companies, consultants, universities, science groups and innovative newcomers.
For applications in Accelerator Science, Analytical, R & D, Automotive, Coating, Solar, Wind, Metallurgy, Food & Packaging, Pharmaceuticals, Process Industries, Space Technology Utilities and many more.
The Vacuum Expo exhibition enables you to research solutions, examine technologies and investigate applications for the many different uses in research and industry.

meer agenda

Basisboek Vacuümtechniek

Titel: Basisboek Vacuümtechniek
Auteurs: E.P.Th.M. Suurmeijer, Th. Mulder, J. Verhoeven
Uitgave: NEVAC
ISBN: 9090137769
Prijs: € 65 gebonden

Erkend Nederlandstalig standaardwerk op het vakgebied der vacuümtechniek
De 710 pagina's tellende titel is opgezet vanuit de gedachte dat het zowel voor het MBO-kader als voor HBOers en academici een bruikbaar en prettig leesbaar leerboek en naslagwerk zou moeten worden. Om deze reden bezit het boek een unieke 'getrapte' structuur, waarbij de specifiek voor HBOers en academici bedoelde 'verdiepingsstof' is aangegeven met een kantlijnstreep. Het weglaten van deze verdiepingsstof levert een boek op MBO-niveau. Zowel mèt als zònder verdiepingsstof bezit het boek de gewenste 'interne samenhang' voor het bijbehorende opleidingsniveau.

De inhoud is vooral op de onderdelen kinetische gastheorie, interactie tussen gas en vaste stof, gasstromings-processen, vacuümpompen en (partiële) drukmeters sterk uitgebreid en geactualiseerd. Terwille van de overzichtelijkheid is het onderwerp 'Interactie tussen gas en vaste stof' uit het oude hoofdstuk 1 (Basisbegrippen) afgesplitst en tot een apart hoofdstuk gemaakt. Hiermee omvat de tweede druk in totaal tien hoofdstukken, één meer dan de eerste druk. Het omvangrijke hoofdstuk 4, handelend over vacuümpompen en pompsystemen, is 'eigentijds' gestructureerd op basis van het onderscheid tussen 'natte' en 'droge' pompen; een pompeigenschap waarvan het belang heden ten dage nauwelijks kan worden overschat. Ook hoofdstuk 8 over dichtheidscontrole heeft een gewijzigde opzet gekregen, waarbij de theoretische beschouwingen over de gevoeligheid en responstijd bij het lekzoeken van complete vacuümsystemen in een overzichtelijker vorm zijn gegoten. Een aantal hoofdstukken is voorzien van oefenvraagstukken, onderverdeeld in twee moeilijkheidsgraden en ontleend aan diverse (NEVAC-) bronnen. De antwoorden zijn achterin het boek opgenomen. Tenslotte is het boek omwille van de praktische bruikbaarheid uitgebreid met enige appendices voorzien van relevante overzichten, grafieken en tabellen.

Evenals bij de eerste druk is de totstandkoming van deze geheel herziene en geactualiseerde tweede druk mogelijk geworden dankzij financiering door de NEVAC die hiermee een van haar belangrijke doelstellingen, namelijk de verbreiding van kennis op het vakgebied der vacuümtechniek, een waardevolle inhoud geeft. Ook de uitgave van het boek geschiedt door de NEVAC in eigen beheer.

Het boek is verkrijgbaar in gebonden vorm (€ 65). Het verheugt ons dat de verkoop en verzending (kosten €10,=), evenals bij de eerste druk, weer zullen worden verzorgd door de firma Busch in Woerden. Bestellingen kunnen worden gericht aan:
Mw. K. Jonkers
Busch B.V.
Pompmolenlaan 2
3447 GK Woerden
tel. 0348-462300

Tevens is er een Supplement op het Basisboek Vacuümtechniek uitgebracht. Dit is te bestellen bij Dr. A.D. van Langeveld, advanlangeveld@gmail.com
Kosten inclusief verzenden: € 25,=



[javascript protected email address]