opleidingen Basisboek vacuümtechniek cursusoverzicht Examens inschrijven

Agenda

Fysica 2020 FYSICA is the annual physics conference of the Netherlands' Physical Society (NNV). Each year the NNV organises FYSICA in cooperation with a Dutch university, in 2020 with Universiteit Twente.
NEVAC-dag 2020, ARCNL Amsterdam Friday, 15 May 2020
Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL), Amsterdam Science Park
Registration
Registration Industry Exhibition

The NEVAC Symposium 2020 is organized by the Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL). We offer an attractive program of lectures, posters, exhibition, the NEVAC Annual Meeting and lab tour of ARCNL. As usual the symposium is free of charge for members of the NEVAC.

Organizers
Prof. Joost Frenken
Dr. Jan Verhoeven
Dr. Roland Bliem

Location
Amsterdam Science Park Congress Center (lectures, posters, exhibition, lunch)
Science Park 125, 1098 XG Amsterdam
ARCNL, Advanced Research Center for Nanolithography (lab tour, drinks)
Science Park 106, 1098 XG Amsterdam

Program Friday, 15 May 2020
09.30 Arrival + Coffee (Amsterdam Science Park Congress Center)

10.00 PLENARY SESSION
- Ron Heeren (Maastricht University): Ions, Images and Innovation: How molecular microscopes make medicine more precise
- Rutger Schlatmann (Helmholtz Zentrum, Berlin): Pushing solar energy conversion beyond today´s efficiency and cost limits
- NEVAC-Prize, including lecture

11.45 NEVAC Annual Meeting + Lunch
11.45 Lunch + Poster Session

13.30 PARALLEL SESSION A
- Eric Louis (University of Twente): Recent developments in optics for EUV-lithography
- Gosse de Vries (ASML, Veldhoven): EUV lithography and its vacuum of a kind
- Bart Weber (ARCNL, Amsterdam): Why does friction limit our ability to make smart phones smarter?

13.30 PARALLEL SESSION B
- Diederik Depla (Ghent University): Impurity dominated film growth
- Thomas Lucas (Eindhoven University of Technology & ARCNL): Smart*Light: A Compact Inverse Compton X-ray Source
- Mehdi Saedi (Leiden University): Formation of two-dimensional materials on liquid metal catalysts: An in situ investigation

15.00 Tea break

15.30 PLENARY SESSION
Ulrike Diebold (Vienna University of Technology): Oxide Surfaces at the Atomic Scale

16.15 Transfer to ARCNL (5 minutes walking to MATRIX-VII Building)
Lab tour ARCNL
Drinks
18.00 END

Registration
Registration is required to participate in the NEVAC Symposium 2020. Registration is free of charge for NEVAC members.
For non NEVAC members, a modest fee of € 50 is requested.
Deadline for registration is Wednesday, April 15, 2020.
Please go to registration page

If you want to participate in the Industry Exhibition, please go to registration form Industry Exhibition
 Nationaal Symposium Contamination Control Het symposium in Congrescentrum ‘s-Hertogenbosch heeft een middagvullend programma met parallelle sessies. Daarnaast is er de mogelijkheid tot het deelnemen aan of bezoeken van de vakbeurs. Het programma wordt in april bekend gemaakt. Vanaf dat moment kan je je inschrijven als symposiumdeelnemer.

meer agenda

Basisboek Vacuümtechniek

Titel: Basisboek Vacuümtechniek
Auteurs: E.P.Th.M. Suurmeijer, Th. Mulder, J. Verhoeven
Uitgave: NEVAC
ISBN: 9090137769
Prijs: € 65 gebonden

Erkend Nederlandstalig standaardwerk op het vakgebied der vacuümtechniek
De 710 pagina's tellende titel is opgezet vanuit de gedachte dat het zowel voor het MBO-kader als voor HBOers en academici een bruikbaar en prettig leesbaar leerboek en naslagwerk zou moeten worden. Om deze reden bezit het boek een unieke 'getrapte' structuur, waarbij de specifiek voor HBOers en academici bedoelde 'verdiepingsstof' is aangegeven met een kantlijnstreep. Het weglaten van deze verdiepingsstof levert een boek op MBO-niveau. Zowel mèt als zònder verdiepingsstof bezit het boek de gewenste 'interne samenhang' voor het bijbehorende opleidingsniveau.

De inhoud is vooral op de onderdelen kinetische gastheorie, interactie tussen gas en vaste stof, gasstromings-processen, vacuümpompen en (partiële) drukmeters sterk uitgebreid en geactualiseerd. Terwille van de overzichtelijkheid is het onderwerp 'Interactie tussen gas en vaste stof' uit het oude hoofdstuk 1 (Basisbegrippen) afgesplitst en tot een apart hoofdstuk gemaakt. Hiermee omvat de tweede druk in totaal tien hoofdstukken, één meer dan de eerste druk. Het omvangrijke hoofdstuk 4, handelend over vacuümpompen en pompsystemen, is 'eigentijds' gestructureerd op basis van het onderscheid tussen 'natte' en 'droge' pompen; een pompeigenschap waarvan het belang heden ten dage nauwelijks kan worden overschat. Ook hoofdstuk 8 over dichtheidscontrole heeft een gewijzigde opzet gekregen, waarbij de theoretische beschouwingen over de gevoeligheid en responstijd bij het lekzoeken van complete vacuümsystemen in een overzichtelijker vorm zijn gegoten. Een aantal hoofdstukken is voorzien van oefenvraagstukken, onderverdeeld in twee moeilijkheidsgraden en ontleend aan diverse (NEVAC-) bronnen. De antwoorden zijn achterin het boek opgenomen. Tenslotte is het boek omwille van de praktische bruikbaarheid uitgebreid met enige appendices voorzien van relevante overzichten, grafieken en tabellen.

Evenals bij de eerste druk is de totstandkoming van deze geheel herziene en geactualiseerde tweede druk mogelijk geworden dankzij financiering door de NEVAC die hiermee een van haar belangrijke doelstellingen, namelijk de verbreiding van kennis op het vakgebied der vacuümtechniek, een waardevolle inhoud geeft. Ook de uitgave van het boek geschiedt door de NEVAC in eigen beheer.

Het boek is verkrijgbaar in gebonden vorm (€ 65). Het verheugt ons dat de verkoop en verzending (kosten €10,=), evenals bij de eerste druk, weer zullen worden verzorgd door de firma Busch in Woerden. Bestellingen kunnen worden gericht aan:
Mw. K. Jonkers
Busch B.V.
Pompmolenlaan 2
3447 GK Woerden
tel. 0348-462300

Tevens is er een Supplement op het Basisboek Vacuümtechniek uitgebracht. Dit is te bestellen bij Dr. A.D. van Langeveld, advanlangeveld@gmail.com
Kosten inclusief verzenden: € 25,=



[javascript protected email address]